日洋展は具象絵画の追求を目指しコンクールを日本橋三越で10年、その後日洋会を結成し、セントラル美術館と上野の森美術館 で10年、東京都美術館と上野の森美術館で10年と開催し、通算30年を重ねてきました。この節目の年を迎え来年は国立新美術館に会場を移すことになり、今回は上野での最後の展覧会となります。
　 今回の応募者数は、昨年とほぼ同数でしたが、新旧の交替が目立ちました。
選考にあたっては、発足当時からの原点に基づき「未完成であっても、はつらつとした新人発掘、骨太い具象絵画の研鑽」を再確認する姿勢で入選作品を決定いたしました。その結果、初入選74点が選出されました。これは将来に大きな期待を寄せるところであります。
　 最近は情報豊かな時代、ともすると安易に表面的なまとめに留まるような作品が目につきます。自然を大切に自分の目で自然から多くのものを学び取ってほしいものです。そこには尽きることなく発見があります。自分の殻に閉じ篭り生彩を欠くことなく、常に感動をもって制作にあたってほしいと願います。
　 受賞作品選考にあたっては、候補作品は例年より多く上り、数度にわたり協議
のうえ絞り込み、内容、表現力に優れ、気力溢れる作品が選ばれました。
　明年は第21回展を国立新美術館で全作品一堂に展示できます。新企画も予定しております。新生日洋展の始まりです。意欲をもって初心を思い起こし、純粋に前進することを切望致します。